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薄膜传感器在航天领域应用展望：ALD 制备技术、性能优化与未来挑战
编号：534 访问权限：PARTICIPANT_ONLY 更新：2025-04-26 21:53:51 浏览：456次 特邀报告

报告开始：2025-05-11 09:40

报告时间：20min

所在会场：[B2] 薄膜科技论坛二 [B21] 上午场

暂无文件

摘要
薄膜传感器具有小型化、高灵敏度、低功耗及环境适应性优异等优势，在航天领域温度监测、气体检测、辐射探测及柔性电子等方向有广泛应用前景。极端环境（真空高、辐射强、温差大）对传感器可靠性和稳定性提出了更高要求，亟需对其制备技术进行优化。原子层沉积（ALD）技术凭借其原子级厚度控制、优异的均匀性和三维覆盖能力，为高性能薄膜传感器的制备提供有效途径。本文综述了薄膜传感器在航天领域的关键应用场景，探讨了ALD技术在敏感层优化、界面工程及封装防护等应用的可行性，分析了沉积速率、材料局限性及成本等方面面临的挑战，为推动新型航天薄膜传感器发展，提升器件环境适应性和智能化水平提供基础。
关键词
薄膜传感器；原子层沉积技术；航天应用；极端环境；敏感层
报告人
高恒蛟
兰州空间技术物理研究所

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重要日期

  • 会议日期

    05-09

    2025

    至

    05-11

    2025

  • 05-11 2025

    注册截止日期

  • 05-14 2025

    摘要截稿日期

  • 05-14 2025

    初稿截稿日期

  • 08-07 2025

    报告提交截止日期

主办单位

中国机械工程学会表面工程分会

承办单位

天津大学
中国地质大学（北京）
海南大学
北京科技大学

联系方式

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