B和Si掺杂对TiAlTaN涂层结构和性能的影响
编号:398 访问权限:PARTICIPANT_ONLY 更新:2025-04-21 21:03:32 浏览:292次 口头报告

报告开始:2025-05-11 15:15

报告时间:15min

所在会场:[B2] 薄膜科技论坛二 [B22] 下午场

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摘要
TiAlTaN涂层因具有较优异的结构稳定性、力学性能和抗氧化性被广泛应用于切削刀具防护领域,第五组元掺杂可进一步改善TiAlTaN涂层的综合性能。本工作采用阴极弧蒸发法制备了Ti0.34Al0.50Ta0.16N、Ti0.33Al0.51Ta0.13B0.03N和Ti0.33Al0.52Ta0.12Si0.03N涂层,结合实验和第一性原理计算探究了B和Si掺杂对TiAlTaN涂层结构、力学与热性能的影响。结果表明B或Si掺杂会降低TiAlTaN涂层的韧性;但B/Si元素掺杂引起的固溶强化和细晶强化提高了TiAlTaN涂层的硬度,Ti0.33Al0.51Ta0.13B0.03N涂层具有最大的硬度值37.8 ± 0.6 GPa,且其在1000°C退火后获得了最大的峰值硬度39.3 ± 0.9 GPa。TiAlTaXN涂层的氧化失效机制主要取决于O向内扩散对晶格结构的破坏程度以及氧化层的致密性。分子动力学模拟表明TiAlTaBN体系的晶格结构在氧化过程中易遭到破坏,而TiAlTaSiN体系对O原子的向内扩散有较强的阻碍作用。Si掺杂抑制了TiAlTaN涂层氧化过程中锐钛矿型TiO2向金红石型TiO2的转变。Ti0.34Al0.50Ta0.16N、Ti0.33Al0.51Ta0.13B0.03N和Ti0.33Al0.52Ta0.12Si0.03N涂层在1000°C氧化15 h后的氧化层厚度分别为~1.08 μm、1.25 μm和0.83 μm。
关键词
TiAlTaXN涂层,力学性能,热性能,第一性原理计算
报告人
李佳婕
中南大学粉末冶金研究院

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重要日期
  • 会议日期

    05-09

    2025

    05-11

    2025

  • 05-11 2025

    注册截止日期

  • 05-14 2025

    摘要截稿日期

  • 05-14 2025

    初稿截稿日期

  • 08-07 2025

    报告提交截止日期

主办单位

中国机械工程学会表面工程分会

承办单位

天津大学
中国地质大学(北京)
海南大学
北京科技大学