口头报告弧光/辉光放电等离子体辅助渗/镀表面技术的交叉研究
编号:234
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更新:2021-04-23 13:41:23 浏览:104次
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摘要
离子镀膜技术和等离子体渗氮/碳技术均是采用等离子体能量进行表面改性的技术,涉及真空物理、等离子体物理等理论知识,理论背景和工艺参数方面都存在着诸多交叉点。我们利用辉光放电等离子体渗氮/碳技术制备了类石墨碳(GLC)膜,获得一种低成本制备大面积自润滑碳膜的方法,并且可以实现渗碳/氮层+GLC膜复合层的连续制备,有利于工业化生产。同时,我们利用多弧离子镀设备实现了快速等离子体渗氮,高能量的氮离子可以降低等离子体渗氮/碳温度或缩短处理时间,适合不锈钢等具有特殊热处理要求的材料。同时,我们也可以实现模具钢等材料表面渗氮+镀膜(多元氮/碳化物碳硬质膜)的连续制备。因此,离子镀膜技术(沉积技术)和等离子体渗氮/碳技术(热处理技术)逐渐走向融合是未来的发展趋势。
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