口头报告PECVD法制备聚丙烯薄膜及其耐腐蚀性研究
编号:219
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更新:2021-04-23 13:41:20 浏览:107次
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摘要
目前聚丙烯薄膜的合成方法大多是液相法,合成步骤繁琐,污染较大。本文采用等离子体增强化学气相沉积法在H65合金表面沉积PP膜以避免液相法合成PP膜的一些缺陷。同时,采用浸涂法在H65合金表面制备了PP薄膜 (PP-L),并与气相沉积的PP薄膜 (PP-V) 进行了比较。利用傅立叶变换红外光谱 (FT-IR)、X射线光电子能谱 (XPS)和扫描电子显微镜 (SEM) 对薄膜的化学组成和表面形貌进行了表征。利用扫描探针显微镜 (SPM) 和动态接触角测量 (DCA) 对薄膜的表面粗糙度和接触角进行了表征。利用电化学阻抗谱和极化曲线研究了聚丙烯薄膜的耐蚀性。结果表明PECVD法制备的聚丙烯膜的自腐蚀电流密度低至2.45×10 -8 (A·cm-2 ),其对铜合金的腐蚀抑制效率达到了99.96%。本研究为电子元器件无卤体系防护涂层的开发提供了一种可行的思路和方案。
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