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特邀报告等离子喷涂-物理气相沉积功能陶瓷涂层研究
编号：155 访问权限：仅限参会人 更新：2020-10-19 16:12:20 浏览：538次

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摘要
等离子喷涂-物理气相沉积（PS-PVD）技术因其良好的涂层结构调控能力，在制备柱状结构热障涂层、致密陶瓷涂层方面有着非常广阔的应用前景，成为当前的研究热点。本文阐述了等离子喷涂-物理气相沉积的原理，重点介绍了采用等离子喷涂-物理气相沉积技术的几种应用场景，包括具有柱状结构的YSZ、GZO热障涂层；高致密透氧膜、环境障涂层以及特种结构的NiO功能陶瓷涂层。研究认为，PS-PVD技术可在大面积工件表面高效制备性能优异的特种功能陶瓷涂层，而其非视线沉积特点将使其在工业领域能够快速实现工程化应用，应用前景广阔。
 
关键词
等离子喷涂-物理气相沉积；功能陶瓷涂层
报告人
春明 邓
广东省科学院新材料研究所

子谦 邓
广东省科学院新材料研究所

牛 少鹏
广东省科学院新材料研究所

琛 宋
广东省科学院新材料研究所

亚鹏 张
广东省科学院新材料研究所

张 小锋
广东省科学院新材料研究所

毛 杰
广东省科学院新材料研究所

敏 刘
广东省科学院新材料研究所

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第十三届全国表面工程大会暨第十二届全国青年表面工程论坛

2020年11月13日~16日 中国 · 广州市

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