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特邀报告AlCrTiNb多主元合金靶HiPIMS放电等离子体特性及其氮化物薄膜晶体结构和力学性能研究

编号：237 访问权限：仅限参会人更新：2024-04-22 17:59:51 浏览：82次收藏取消收藏

2024-05-12 13:50

20min

[D] 论坛3：物理气相沉积和化学气相沉积薄膜技术 [D-2] 论坛3下午

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摘要

高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）以其较传统磁控溅射更高的溅射材料离化率，被广泛应用于薄膜的生长结构和性能调控。本文以AlCrTiNb多主元合金靶为例，研究了HiPIMS放电峰值电流指标与离子初始能量、特定离子流通量和基体电流密度的关系，针对性的研究了基体电流密度和特定离子流通量对AlCrTiNbN薄膜晶体结构、残余应力和硬度的影响，给出了针对不同放电峰值电流的离子加速策略建议。研究了低离子轰击能量下AlCrTiNb(Hf/W)N薄膜的晶体结构差异，结合第一性原理计算证明了含W薄膜非单相结构形成的原因，并提出了解决此问题的可行性方案。本研究可为多主元复杂陶瓷薄膜的性能调控提供理论基础和更多的可能性。

关键词

HiPIMS；物理气相沉积；多主元氮化物；残余应力

报告人

杜昊

贵州大学

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活动信息

第十四届全国青年表面工程学术会议

2024年05月10日~12日中国 · 宁波市

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