口头报告TiSiN/NiTiAlCrCoN纳米多层膜工艺参数优化及抗空蚀性能研究
编号:34
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更新:2024-03-12 09:11:56 浏览:92次
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摘要
摘要:采用磁控溅射技术在304不锈钢和单晶Si片上制备TiSiN/NiTiAlCrCoN高熵合金纳米多层膜,以涂层的硬度、弹性模量和结合力为评价指标,通过三因素三水平正交试验对不同工艺参数进行优化,采用X射线衍射仪、扫描电镜、能谱仪等表征涂层材料的组织结构和形貌。结果表明,不同工艺参数下的涂层均为简单的面心立方结构,在(200)晶面出现择优取向,Ni、Ti、Cr、Co 四种元素在涂层中均匀分布。涂层表面结合力对涂层的抗空蚀性能影响较大,工艺参数对涂层表面结合力影响程度依次为氮氩流量比、基底温度、溅射功率,综合极差和方差的分析得到最终较优的工艺参数为氮氩流量比4:4,溅射功率100W,基底温度为室温。
关键词
磁控溅射,纳米多层膜,正交试验,极差和方差分析,抗空蚀性能
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