图书馆-报告库-中国机械工程学会表面工程分会

口头报告含有缺陷的Graphene/ h-BN多晶异质膜的摩擦学特性

编号：190 访问权限：仅限参会人更新：2023-04-09 21:20:10 浏览：1106次收藏取消收藏

2023-04-23 14:10

15min

[Y2] 第十四届全国青年表面工程论坛二 [M2] 下午场

暂无文件

摘要

由Graphene和h-BN组成的异质膜具有良好的减摩、耐磨和耐腐蚀性能，这为高湿、高盐雾的海洋环境下的减摩耐腐涂层设计提供了一种有效解决方案。由于二维材料制造方法的不成熟，多晶结构在二维材料中不可避免，并显著影响材料的摩擦学性能。本研究采用分子动力学方法，研究了不同晶界角度异质膜的摩擦学特性（摩擦和磨损），揭示了晶界对异质膜摩擦学特性的影响机理，分析了晶界处的点缺陷对异质膜强度的影响规律。结果表明: 异质膜具有优异的减摩效果，晶界六七元环处的应力集中现象会降低异质膜的磨损强度，应力集中现象随晶界角度增大而逐渐消失，去除晶界处拉应力较大的危险原子有助于提高异质膜耐磨强度。本研究从原子尺度揭示了Graphene/h-BN异质结构薄膜的摩擦学特性，为多晶异质涂层的制造和应用具有指导意义。