90 / 2021-04-01 10:01:11
量子点膜用阻隔膜制备技术研究进展——时间要求紧迫发表
量子点膜; 高阻隔膜 ;有机/无机多层膜
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秦丽丽 / 兰州空间技术物理研究所
量子点膜用高阻隔膜产品是量子显示封装技术的关键产品,高阻隔膜的制备技术决定着阻隔膜产品性能特性。本文通过分析量子点膜用高阻隔膜产品性能指标,总结热蒸发、化学气相沉积、原子层沉积等制备柔性高阻隔薄膜的方法、原理、特点及应用,展望量子点膜用阻隔膜产品的发展前景。研究表明量子点膜用高阻隔薄膜制备工艺趋向于有机/无机多层结构的超高阻复合薄膜,是快速、高效、批量化制备量子点膜用高阻隔封装薄膜的发展趋势。
重要日期
  • 会议日期

    05-14

    2021

    05-16

    2021

  • 04-25 2021

    EARLY_BIRD_REGISTRATION

  • 05-10 2021

    初稿截稿日期

  • 05-16 2021

    注册截止日期

主办单位

中国机械工程学会表面工程分会

承办单位

扬州大学机械工程学院
智能制造装备江苏省重点产业学院

历届会议